集成电路产业:迎来巨大发展机遇

  时间:2025-07-04 02:01:20作者:Admin编辑:Admin

美国威斯康辛大学的Xie、集成巨大机遇DaneMorgan等人利用CALPHAD方法对U-Zr,集成巨大机遇Np-Zr和Np-U二元系统模型Muggianu外推得到了与金属核燃料相关的Np-U-Zr三元合金相图,使用DFT和DFT+Hubbard修正计算了28种Np-U-Zr系统(见图2)的高温BBC相图[2],结果如图3所示,其中,绿色曲线勾勒了固相线和BCC+BCC混溶间隙的界面,黑色曲线绘出了BCC相和低温相的界面。

电路f)POD-Bi的扫描透射电子显微镜图(插图为晶格和选择区域电子衍射图案的相应放大图像)。产业相关成果以题为Thep-OrbitalDelocalizationofMain-GroupMetalBoostingCO2 Electroreduction发表在了Angew.Chem.上。

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发展e)从欠电位沉积的Pb剥离后POD-Bi和商业Bi的线性扫描伏安曲线。e)计算的电催化CO2进入甲酸盐的自由能图,集成巨大机遇不考虑电极电位(U=0V)的影响。 文献链接:电路Thep-OrbitalDelocalizationofMain-GroupMetalBoostingCO2 Electroreduction(Angew.Chem.,电路2018,DOI:10.1002/anie.201810538)本文由材料人编辑部学术组木文韬翻译,材料牛整理编辑。

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产业d)POD-Bi和商业Bi的键长。b)在100,发展200和500mA/cm2下还原的POD-Bi和商业Bi的相应甲酸盐FE和生产速率。

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图2POD-Bi和商业Bi的表征a)BiOCl在-0.76V vs.RHE下,电路在CO2饱和电解质中还原后的BiL3-edge XAFS光谱以及与商业Bi的比较。如果你不喜欢,产业可以不用剃。

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